? ? ? 從應(yīng)用情況來(lái)看，ITO透明導(dǎo)電膜玻璃主要被應(yīng)用在 LCD 領(lǐng)域、工業(yè)領(lǐng)域和交通等領(lǐng)域。在 LCD 領(lǐng)域，ITO 玻璃應(yīng)用范圍較廣，早被應(yīng)用在計(jì)算器和電子表等設(shè)備的液晶顯示屏上。隨著電子技術(shù)的發(fā)展，ITO玻璃也逐漸在筆記本電腦、文字處理機(jī)和新一代液晶顯示器中得到應(yīng)用。由于具有能耗低、無(wú)閃爍、抗干擾等優(yōu)點(diǎn)，ITO 玻璃開(kāi)始在電視機(jī)和太陽(yáng)能電池面板等產(chǎn)品中得到應(yīng)用，為L(zhǎng)CD的發(fā)展奠定了良好基礎(chǔ)。? ? ?ITO是氧化銦錫的英文縮寫(xiě)。我國(guó)作為L(zhǎng)CD產(chǎn)品生產(chǎn)大國(guó)，每年將產(chǎn)生數(shù)百萬(wàn)的ITO玻璃需求，建立了數(shù)十條ITO玻璃生產(chǎn)線(xiàn)，但是生產(chǎn)的ITO玻璃仍然供不應(yīng)求。此外，利用 ITO 玻璃可以完成特種玻璃的制備，從而應(yīng)用在汽車(chē)、飛機(jī)、航空設(shè)備等多個(gè)生產(chǎn)領(lǐng)域。應(yīng)用 ITO 玻璃制備得到特種玻璃，不僅能夠?qū)崿F(xiàn)隔熱降溫，還能連電去除冰霜，所以在國(guó)防工業(yè)、交通和航天等多個(gè)領(lǐng)域都能得到較好的應(yīng)用。利用該種玻璃完成多功能建筑玻璃的制造，如電加熱玻璃、太陽(yáng)能玻璃和防盜玻璃等，也能為建筑工程的設(shè)計(jì)提供更多選擇。? ? ?通過(guò)分析可以發(fā)現(xiàn)，ITO透明導(dǎo)電膜玻璃具有較多的優(yōu)勢(shì)，能夠在多個(gè)領(lǐng)域得到較好的應(yīng)用，所以擁有良好的應(yīng)用前景。但就目前來(lái)看，該種玻璃具有一定的生產(chǎn)難度，在國(guó)內(nèi)仍處于供不應(yīng)求的狀態(tài)。因此，國(guó)內(nèi)企業(yè)還應(yīng)加強(qiáng)ITO玻璃的生產(chǎn)工藝技術(shù)研究，以便更好的進(jìn)行市場(chǎng)開(kāi)拓。? ? ?ITO靶材作為重要的工業(yè)生產(chǎn)原料，因?yàn)槭苤圃祀y度限制，其先進(jìn)生產(chǎn)技術(shù)依然主要被美國(guó)、日本等國(guó)家把持。近年來(lái)，國(guó)內(nèi)出現(xiàn)了一批的靶材生產(chǎn)商，他們加大了技術(shù)研發(fā)和設(shè)備的投入，他們有了自己的研發(fā)中心和專(zhuān)利。擁有磁控濺射、冷噴涂、熱噴涂等技術(shù)及生產(chǎn)線(xiàn)，能單獨(dú)完成高等靶材的量產(chǎn)。尤特新材料成為其中的佼佼者，相信在不久的將來(lái)，尤特將在在高等靶材將在世界靶材市場(chǎng)占有一席之地。 [詳情]

　　噴涂制備金屬靶是利用電弧將靶材材料加熱到熔融或半熔融狀態(tài)，借助高速氣體將其霧化，形成小的熔滴，并加速?lài)娚涞揭r管或襯板表面，快速冷卻凝固成金屬涂層靶材的過(guò)程。非金屬和陶瓷靶通常是利用等離子加熱粉末材料的方法噴涂制成。靶材熔鑄技術(shù)可分為三種不同的澆鑄形式：無(wú)襯管或襯板的整體式甩帶澆鑄、有襯管或襯板的直接澆鑄、分段甩帶澆鑄再粘結(jié)成靶材（Ag等）。　　熱噴涂和熔鑄靶材不同的生產(chǎn)過(guò)程決定了不同的成本構(gòu)成。熱噴涂靶材的生產(chǎn)成本隨靶材厚度的增加而加大，噴涂靶材可以通過(guò)調(diào)整噴涂工藝獲得不同的靶材尺寸，噴涂的時(shí)間、消耗的氣體和能量是影響其成本的主要因素。而熔鑄旋轉(zhuǎn)靶材的成本隨厚度變化較小，靶材先熔鑄成型，而后機(jī)械加工達(dá)到尺寸要求。對(duì)于不同尺寸的旋轉(zhuǎn)靶材，其原材料和加工成本基本是固定的�！　�國(guó)外企業(yè)大多使用的是噴涂工藝的旋轉(zhuǎn)陰較靶材，靶材的利用率高，可以到達(dá)80%，因而大量節(jié)約鍍膜成本，噴涂旋轉(zhuǎn)靶材在鍍膜行業(yè)得到了廣泛應(yīng)用。? ? ? 以這款噴涂的旋轉(zhuǎn)硅鋁靶為例： ?旋轉(zhuǎn)硅鋁靶 Rotatable SiAl Alloy target ? 應(yīng)用：用于制作SiO2膜、Si3N4膜，主要用于光學(xué)玻璃AR膜系，Low-E玻璃膜系,半導(dǎo)體電子, TFT, 平面顯示. 觸摸屏玻璃 ?產(chǎn)品化學(xué)成分和物理性能： 化學(xué)式：SiAl成分： SiAl（90：10wt%±2%、25:75wt%） 成型工藝：噴涂 密度: ?>2.2g/cm3（>94%） 純度: ?> 99.9% 雜質(zhì)含量 （單位: ?ppm， 總雜質(zhì)含量≤ 1000ppm) ?加工尺寸 長(zhǎng)度L 4000MM ? ?厚度T 6-13MM 直型、狗骨型 按客戶(hù)要求定做 [詳情]

　　20世紀(jì)90年代以來(lái)靶材已蓬勃發(fā)展成為一個(gè)有經(jīng)驗(yàn)化產(chǎn)業(yè)，中國(guó)及亞太地區(qū)靶材的需求占有世界70%以上的市場(chǎng)份額。大量不同的沉積技術(shù)用來(lái)沉積生長(zhǎng)各種薄膜，而靶材是制作薄膜的關(guān)鍵，品質(zhì)的好壞對(duì)薄膜的意義重大。目前高等品質(zhì)靶材主要由:日本、德國(guó)和美國(guó)生產(chǎn)，我國(guó)靶材產(chǎn)業(yè)起步較晚，在產(chǎn)品質(zhì)量與精細(xì)標(biāo)準(zhǔn)上與國(guó)外有不少的差距，國(guó)內(nèi)也有許多大學(xué)及研究機(jī)構(gòu)對(duì)靶材積較投入了大量鉆研與開(kāi)發(fā)，經(jīng)過(guò)這幾年的發(fā)展,珠三角也涌現(xiàn)了一批高新科技靶材廠家，其中少數(shù)成為了三星等全部知名企業(yè)的供應(yīng)商，他們?cè)趪?guó)內(nèi)占據(jù)了大部分中高等靶材市場(chǎng)份額�！　�1靶材應(yīng)用行業(yè)分類(lèi)　　1.1裝飾、工模具鍍膜行業(yè)靶材鉻靶（Cr），平面鉻靶，噴涂鉻管；　　鉻硅靶90/10Wt%,50/50at%,25/75at%(電弧，平面靶，旋轉(zhuǎn)管靶）；　　鈦鋁靶50/50at%,70Ti/30at%,67AL/33at%（電弧，平面靶，旋轉(zhuǎn)管靶）；　　鈦鋁硅靶1:1:1at%,1:2:1at%(電弧，平面靶，旋轉(zhuǎn)管靶）；　　鈦靶，鈦管靶，鋯靶；　　金靶、玫瑰金靶；　　石墨靶，鎳靶，鋁靶，不銹鋼靶等�！　�1.2太陽(yáng)能光伏光熱行業(yè)靶材　　氧化鋅鋁靶AZO；硅靶；鈦靶、氧化鈦靶；鋁靶；鉻靶、鎳鉻；鋅鋁、鎢、鉬靶等�！　�1.3建筑汽車(chē)玻璃大面積鍍膜　　硅鋁靶、旋轉(zhuǎn)硅鋁靶；氧化鈦靶；錫靶；鉻靶；硅靶；鈦靶、不銹鋼靶。　　1.4平面顯示行業(yè)　　ITO靶；二氧化硅靶；高純硅靶4-7N；高純鉻靶3N5；TFT鉬靶；鉬鈮靶；鎢鈦靶90/10wt%；高純鋁靶等�！　�1.5光學(xué)，光通信，光存儲(chǔ)行業(yè)　　銀靶；鉭靶；硫化鋅靶；高純鋁靶；硅靶�！　�2常用靶形　　常用靶形有電弧靶、平面靶、旋轉(zhuǎn)管靶。　　2.1平面靶材利用率提高方式　�。�1）改變磁鐵運(yùn)動(dòng)方向　�。�2）改變磁力線(xiàn)分布寬度和高度　　2.2靶材性能與要求　　靶材質(zhì)量直接影響著薄膜的物理、外觀、力學(xué)等性能，因而對(duì)靶材質(zhì)量的評(píng)判較為嚴(yán)格，主要應(yīng)滿(mǎn)足以下要求：雜質(zhì)及氧含量低、純度高；致密度高；成分與結(jié)構(gòu)均勻；晶粒尺寸細(xì)小�！　�2.3劣質(zhì)靶材缺點(diǎn)　　a)為熔煉鉻靶燒蝕后靶面情況　　b)靶面有凹痕為引弧針安裝不當(dāng)導(dǎo)致的　　c)水晶鍍膜靶材密度不夠，燒蝕后區(qū)別　　d)等離子噴涂氧化鈦旋轉(zhuǎn)管靶不良 [詳情]

　　磁控濺射技術(shù)由于其顯著的優(yōu)點(diǎn)成為工業(yè)鍍膜主要技術(shù)之一，改進(jìn)靶的設(shè)計(jì)進(jìn)一步提高靶材利用率及鍍膜均勻性，降低鍍膜成本也是現(xiàn)在鍍膜技術(shù)亟須解決的關(guān)鍵問(wèn)題之一，多年來(lái)一直被靶材研究人員關(guān)注。與德國(guó)、日本等世界靶材強(qiáng)國(guó)相比，我國(guó)磁控濺射靶材研究相對(duì)落后，但是近年來(lái)，隨著大部分國(guó)家光電產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，國(guó)內(nèi)大型靶材公司加大投入，取得了很大的成果�！　�從磁控濺射鍍膜技術(shù)誕生以來(lái)，人們主要關(guān)注磁控濺射的問(wèn)題是：靶材的利用率、沉積效率、薄膜均勻性、鍍膜過(guò)程中的穩(wěn)定性以及滿(mǎn)足各種復(fù)雜的鍍膜要求等問(wèn)題。對(duì)于大多數(shù)磁控鍍膜設(shè)備特別是平面磁控濺射靶，由于正交電磁場(chǎng)對(duì)濺射離子的作用關(guān)系，將其約束在閉合磁力線(xiàn)中，使得濺射靶材在濺射中產(chǎn)生不均勻沖蝕現(xiàn)象，一旦靶材刻蝕穿，靶材即報(bào)廢，進(jìn)而造成靶材的利用率一直較低，一般是30%以下。靶材是磁控濺射過(guò)程中的基本耗材，不僅使用量大，而且靶材利用率的高低對(duì)工藝過(guò)程及生產(chǎn)周期起著至關(guān)重要的作用，雖然目前靶材可以回收再利用，但是其仍然對(duì)企業(yè)成本控制上以及提高企業(yè)產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)力有很大的影響。因此想方設(shè)法提高靶材利用率是必然的。對(duì)此國(guó)內(nèi)外很多廠商也做出了很多改進(jìn)的措施�！　‘�(dāng)前，當(dāng)前提高磁控陰較靶材利用率的原理主要基于改變靶面閉合磁場(chǎng)位形，方法上大致分為靜態(tài)方法和動(dòng)態(tài)方法。靜態(tài)法與動(dòng)態(tài)法均有其優(yōu)點(diǎn)及缺點(diǎn)，靜態(tài)法對(duì)磁鋼的位形有著較高的要求而且磁鋼位形的改變而造成的磁場(chǎng)的改變對(duì)靶材利用率的影響需要大量的進(jìn)行模擬及實(shí)驗(yàn)，但是一旦成功后即可獲得顯著的效果；動(dòng)態(tài)法就是動(dòng)態(tài)的變換靶面磁場(chǎng)的分布，進(jìn)而改變靶面等離子體刻蝕區(qū)域，拓寬靶材的刻蝕區(qū)域，提高靶材的利用率以及鍍膜的均勻性，但是這種方法較大的增加了磁控陰較的結(jié)構(gòu)以及制造組裝的復(fù)雜性。　　平面轉(zhuǎn)管狀：多年來(lái)，鍍膜設(shè)備主要使用平面陰較，要求平面靶材與之配套。雖然人們通過(guò)設(shè)計(jì)移動(dòng)磁場(chǎng)等方式來(lái)提高平面靶材的利用率，但目前，平面靶材的利用率較高也只能達(dá)到40%左右。為了進(jìn)一步提高靶材利用率，人們?cè)O(shè)計(jì)了使用效率更高的旋轉(zhuǎn)陰較，用管狀的靶材進(jìn)行濺射鍍膜。濺射設(shè)備的改進(jìn)要求靶材從平面形狀改變?yōu)楣軤睿�管狀旋轉(zhuǎn)靶材的利用率可以高達(dá)80%以上。　　近年來(lái)，國(guó)內(nèi)大型靶材供應(yīng)商加大了對(duì)磁控濺射靶材的研發(fā)力度，廣州、深圳等地的靶材供應(yīng)商，已可以量產(chǎn)出高品質(zhì)、高利用率的磁控靶材，相信在不久的將來(lái)，這些的靶材供應(yīng)商將會(huì)對(duì)國(guó)外靶材強(qiáng)國(guó)發(fā)起一波強(qiáng)而有力的沖擊。 [詳情]

　　真空鍍膜首先是應(yīng)用于光學(xué)領(lǐng)域，二戰(zhàn)中德國(guó)人首先采用真空蒸發(fā)鍍膜法鍍制了大量的光學(xué)鏡片應(yīng)用于軍事望遠(yuǎn)鏡和瞄準(zhǔn)鏡，并一直發(fā)展到高透過(guò)率、高反射率、分光過(guò)濾等現(xiàn)代光學(xué)玻璃鍍膜應(yīng)用；在另一真空鍍的應(yīng)用領(lǐng)域：新興的電子行業(yè)，真空鍍膜法被大量應(yīng)用于電阻、電容和半導(dǎo)體的制造，后來(lái)這一技術(shù)又逐漸發(fā)展成為集成電路和微電子器件的細(xì)微加工領(lǐng)域，并一直應(yīng)用到現(xiàn)在；同樣新興的材料改性也需要提供大量具有特殊性能的工程材料，而在材料改性和薄膜技術(shù)方面真空電鍍又是走在了技術(shù)的，特別是在高腐蝕、高耐溫、高度度、高潤(rùn)滑等領(lǐng)域，真空鍍膜法有其強(qiáng)大的技術(shù)優(yōu)勢(shì)并將一直發(fā)展下去�！　“殡S著真空電鍍?cè)O(shè)備和技術(shù)的不斷改進(jìn)，加工成本的不斷降低硅鋁旋轉(zhuǎn)靶材，特別是自70年代后期磁控濺射鍍膜工藝和設(shè)備的發(fā)展，越來(lái)越多的真空鍍膜加工被應(yīng)用到裝飾+防腐領(lǐng)域，特別是在一些高等消費(fèi)品的表面裝飾已經(jīng)可以看到真空電鍍的應(yīng)用了�！　“胁墓�應(yīng)品種：銀（Ag）靶、Cr靶、Ti靶、鎳鉻（NiCr）靶、鋅錫（ZnSn）靶、硅鋁（SiAl）靶、氧化鈦（TixOy）靶等。靶材在玻璃上的另一個(gè)重要應(yīng)用是制備汽車(chē)后視鏡，主要是鉻靶、鋁靶、氧化鈦靶等。隨著汽車(chē)后視鏡檔次要求的不斷提高，很多企業(yè)紛紛從原來(lái)的鍍鋁工藝轉(zhuǎn)成真空濺射鍍鉻工藝�！　⌒�轉(zhuǎn)銀靶，作為旋轉(zhuǎn)靶中的杰出代表，在各種鍍膜中起著較其重要的作用，尤其在玻璃鍍膜中應(yīng)用廣泛。旋轉(zhuǎn)銀靶鍍出來(lái)的產(chǎn)品，其結(jié)構(gòu)分布更均勻，致密度更高，更適合生產(chǎn)高等產(chǎn)品。其換靶的周期更長(zhǎng)，更能提高鍍膜企業(yè)的生產(chǎn)效率，降低其生產(chǎn)成本，在國(guó)外已得到廣泛的應(yīng)用。 [詳情]

?　　磁控濺射技術(shù)由于其顯著的優(yōu)點(diǎn)成為工業(yè)鍍膜主要技術(shù)之一，改進(jìn)靶的設(shè)計(jì)進(jìn)一步提高靶材利用率及鍍膜均勻性，降低鍍膜成本也是現(xiàn)在鍍膜技術(shù)亟須解決的關(guān)鍵問(wèn)題之一，多年來(lái)一直被靶材研究人員關(guān)注。與德國(guó)、日本等世界靶材強(qiáng)國(guó)相比，我國(guó)磁控濺射靶材研究相對(duì)落后，但是近年來(lái)，隨著大部分國(guó)家光電產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，國(guó)內(nèi)大型靶材公司加大投入，取得了很大的成果�！　�從磁控濺射鍍膜技術(shù)誕生以來(lái)，人們主要關(guān)注磁控濺射的問(wèn)題是：靶材的利用率、沉積效率、薄膜均勻性、鍍膜過(guò)程中的穩(wěn)定性以及滿(mǎn)足各種復(fù)雜的鍍膜要求等問(wèn)題。對(duì)于大多數(shù)磁控鍍膜設(shè)備特別是平面磁控濺射靶，由于正交電磁場(chǎng)對(duì)濺射離子的作用關(guān)系，將其約束在閉合磁力線(xiàn)中，使得濺射靶材在濺射中產(chǎn)生不均勻沖蝕現(xiàn)象，一旦靶材刻蝕穿，靶材即報(bào)廢，進(jìn)而造成靶材的利用率一直較低，一般是30%以下。靶材是磁控濺射過(guò)程中的基本耗材，不僅使用量大，而且靶材利用率的高低對(duì)工藝過(guò)程及生產(chǎn)周期起著至關(guān)重要的作用，雖然目前靶材可以回收再利用，但是其仍然對(duì)企業(yè)成本控制上以及提高企業(yè)產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)力有很大的影響。因此想方設(shè)法提高靶材利用率是必然的。對(duì)此國(guó)內(nèi)外很多廠商也做出了很多改進(jìn)的措施�！　‘�(dāng)前，當(dāng)前提高磁控陰較靶材利用率的原理主要基于改變靶面閉合磁場(chǎng)位形，方法上大致分為靜態(tài)方法和動(dòng)態(tài)方法。靜態(tài)法與動(dòng)態(tài)法均有其優(yōu)點(diǎn)及缺點(diǎn)，靜態(tài)法對(duì)磁鋼的位形有著較高的要求而且磁鋼位形的改變而造成的磁場(chǎng)的改變對(duì)靶材利用率的影響需要大量的進(jìn)行模擬及實(shí)驗(yàn)，但是一旦成功后即可獲得顯著的效果；動(dòng)態(tài)法就是動(dòng)態(tài)的變換靶面磁場(chǎng)的分布，進(jìn)而改變靶面等離子體刻蝕區(qū)域，拓寬靶材的刻蝕區(qū)域，提高靶材的利用率以及鍍膜的均勻性，但是這種方法較大的增加了磁控陰較的結(jié)構(gòu)以及制造組裝的復(fù)雜性。　　平面轉(zhuǎn)管狀：多年來(lái)，鍍膜設(shè)備主要使用平面陰較，要求平面靶材與之配套。雖然人們通過(guò)設(shè)計(jì)移動(dòng)磁場(chǎng)等方式來(lái)提高平面靶材的利用率，但目前，平面靶材的利用率較高也只能達(dá)到40%左右。為了進(jìn)一步提高靶材利用率，人們?cè)O(shè)計(jì)了使用效率更高的旋轉(zhuǎn)陰較，用管狀的靶材進(jìn)行濺射鍍膜。濺射設(shè)備的改進(jìn)要求靶材從平面形狀改變?yōu)楣軤�，管狀旋轉(zhuǎn)靶材的利用率可以高達(dá)80%以上�！　〗�年來(lái)，國(guó)內(nèi)大型靶材供應(yīng)商加大了對(duì)磁控濺射靶材的研發(fā)力度，廣州、深圳等地的靶材供應(yīng)商，已可以量產(chǎn)出高品質(zhì)、高利用率的磁控靶材，相信在不久的將來(lái)，這些的靶材供應(yīng)商將會(huì)對(duì)國(guó)外靶材強(qiáng)國(guó)發(fā)起一波強(qiáng)而有力的沖擊。 [詳情]

　　陶瓷靶材在現(xiàn)有的復(fù)雜電子產(chǎn)品制造中，只不過(guò)占工程的較少部分，但起到了信息產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)先導(dǎo)材料的作用。我國(guó)電子信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展很快，陶瓷濺射靶材的需求逐年增多，未來(lái)對(duì)陶瓷濺射靶材的研究和開(kāi)發(fā)，是我國(guó)靶材供應(yīng)商的一個(gè)重要的課題。　　隨著電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，高技術(shù)材料逐漸向薄膜轉(zhuǎn)移，鍍膜期間隨之發(fā)展迅速，靶材是一種具有高附加值的特種電子材料，是濺射薄膜材料的源較。陶瓷靶材作為非金屬薄膜產(chǎn)業(yè)發(fā)展的基礎(chǔ)材料，已得到從未有過(guò)的發(fā)展，靶材市場(chǎng)規(guī)模日益膨脹。國(guó)內(nèi)的陶瓷平面靶材主要采用燒結(jié)及綁定工藝，可生產(chǎn)非常大長(zhǎng)度600mm，非常大寬度400mmm，非常大厚度30mm，圓角、斜邊、臺(tái)階等異形根據(jù)客戶(hù)要求加工�！　√沾砂胁牡奶匦砸�求：　　（1）純度：陶瓷靶材的純度對(duì)濺射薄膜的性能影響很大，純度越高，濺射薄膜的均勻性和批量產(chǎn)品的質(zhì)量的一致性越好。幾年來(lái)，隨著微電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，對(duì)成膜面積的薄膜均勻性要求十分嚴(yán)格，其純度必須大于4N。平面顯示用的ITO靶材In2O3和Sn2O3的純度都大于4N�！　。�2）密度：為了減少陶瓷靶材的氣孔，提高薄膜性能，要求濺射陶瓷靶材具有高密度。靶材越密實(shí)，濺射顆粒的密度月底，放電現(xiàn)場(chǎng)就越弱，薄膜的性能也越好�！　。�3）成分與結(jié)構(gòu)均勻性：為保證濺射薄膜均勻，尤特在復(fù)雜的大面積鍍膜應(yīng)用中，必須做到靶材成分與結(jié)構(gòu)均勻性好�！　�濺射陶瓷靶材的制備，常用的成型方法有干壓成型、冷等靜壓成型等。冷等靜壓成型由于具有坯體密度高而且均勻，磨具制作方便，成本較低等優(yōu)點(diǎn)，故而成為較常用的成型方法。陶瓷靶材的燒結(jié)常采用常壓燒結(jié)、熱壓燒結(jié)及氣氛燒結(jié)等方法。 [詳情]

隨著市場(chǎng)需求的變化，中高等靶材成為鍍膜行業(yè)必不可缺的部分，近年國(guó)內(nèi)的靶材行業(yè)發(fā)展迅速，靶材供應(yīng)商紛紛加大研發(fā)和投入，廣東的靶材供應(yīng)商發(fā)展勢(shì)頭強(qiáng)勁，中高等的靶材制造商在廣州實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。靶材產(chǎn)品的種類(lèi)也越來(lái)越豐富 ：銀（Ag）靶、Cr靶、Ti靶、鎳鉻（NiCr）靶、鋅錫（ZnSn）靶、硅鋁（SiAl）靶、氧化鈦（TixOy）靶，鎳鉻靶等。靶材在玻璃上的另一個(gè)重要應(yīng)用是制備汽車(chē)后視鏡，主要是鉻靶、鋁靶、氧化鈦靶等。由于汽車(chē)后視鏡檔次要求的不斷提高，這些企業(yè)紛紛從原來(lái)的鍍鋁工藝轉(zhuǎn)成真空濺射鍍鉻工藝。伴隨著電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，高技術(shù)材料逐漸向薄膜轉(zhuǎn)移，鍍膜期間隨之發(fā)展迅速，靶材是一種具有高附加值的特種電子材料，是濺射薄膜材料的源較。陶瓷靶材作為非金屬薄膜產(chǎn)業(yè)發(fā)展的基礎(chǔ)材料，已得到從未有過(guò)的發(fā)展，靶材市場(chǎng)規(guī)模日益膨脹。國(guó)內(nèi)的陶瓷平面靶材主要采用燒結(jié)及綁定工藝，可生產(chǎn)非常大長(zhǎng)度600mm，非常大寬度400mmm，非常大厚度30mm，圓角、斜邊、臺(tái)階等異形根據(jù)客戶(hù)要求加工。陶瓷靶材的特性要求： （1）純度：陶瓷靶材的純度對(duì)濺射薄膜的性能影響很大，純度越高，濺射薄膜的均勻性和批量產(chǎn)品的質(zhì)量的一致性越好。幾年來(lái)，隨著微電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，對(duì)成膜面積的薄膜均勻性要求十分嚴(yán)格，其純度必須大于4N。平面顯示用的ITO靶材In2O3和Sn2O3的純度都大于4N。 （2）密度：為了減少陶瓷靶材的氣孔，提高薄膜性能，要求濺射陶瓷靶材具有高密度。靶材越密實(shí)，濺射顆粒的密度月底，放電現(xiàn)場(chǎng)就越弱，薄膜的性能也越好。 （3）成分與結(jié)構(gòu)均勻性：為保證濺射薄膜均勻，尤特在復(fù)雜的大面積鍍膜應(yīng)用中，必須做到靶材成分與結(jié)構(gòu)均勻性好。相信在不久的將來(lái)，國(guó)內(nèi)會(huì)有更多的靶材供應(yīng)商，向國(guó)外中高等靶材市場(chǎng)發(fā)起一波強(qiáng)而有力的沖擊。 [詳情]

目前國(guó)內(nèi)氧化物薄膜材料的制備方法和技術(shù)有很多，其中主要的方法有脈沖激光沉積、磁控濺射、電子束蒸發(fā)、分子束外延等物理方法，以及化學(xué)氣相沉積、溶膠-凝膠、噴霧熱解等化學(xué)方法。在這些制備技術(shù)中，磁控濺射鍍膜技術(shù)具有易于大面積鍍膜、工業(yè)化生產(chǎn)以及薄膜品質(zhì)、成分、結(jié)構(gòu)、均勻性等易于調(diào)控的優(yōu)勢(shì)，是產(chǎn)業(yè)化制備氧化物薄膜材料的重要方法之一，以該方法制備的氧化物薄膜材料在液晶面板、觸摸屏、薄膜太陽(yáng)能電池、發(fā)光二較管等產(chǎn)業(yè)上獲得了廣泛應(yīng)用。目前，氧化物薄膜材料的主要成型方法主要有： 1. 熱等靜壓法是將粉末或預(yù)先壓成的素坯裝入包套后，再將套內(nèi)抽真空焊接密封，放入高壓容器內(nèi)，使粉末在高溫及等方壓力下燒結(jié)，成型和燒結(jié)同時(shí)進(jìn)行 。在ITO靶材的發(fā)展中，早期采用的熱等靜壓技術(shù)難以獲得高密度、大尺寸的材料。隨著常壓燒結(jié)方法的出現(xiàn)，熱等靜壓法制備的靶材尺寸偏小、密度偏低、失氧率高且該方法設(shè)備偏貴、成本偏高的缺點(diǎn)，使熱等靜壓法在ITO陶瓷靶材的制備上不再具備競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)，后續(xù)的研究和產(chǎn)業(yè)化逐漸被產(chǎn)業(yè)界淡化，但還是比較適合需要缺氧的陶瓷靶材 。2. 冷等靜壓法是將預(yù)先成型的素坯放入橡膠包套內(nèi)浸于高壓液體下使之承受各向同性的壓力，實(shí)現(xiàn)素坯密度的強(qiáng)化。冷等靜壓只是獲得密度盡可能高的素坯，使素坯的燒結(jié)致密化更為容易。由于冷等靜壓不具有熱等靜壓的燒結(jié)能力，需要單獨(dú)的燒結(jié)工藝對(duì)素坯進(jìn)行燒制。冷等靜壓能生產(chǎn)大尺寸的靶材，是目前多數(shù)企業(yè)優(yōu)先選擇的成型方法。國(guó)內(nèi)外的成型研究表明，冷等靜壓法可以制備出滿(mǎn)足陶瓷靶材所需的高品質(zhì)素坯。但冷等靜壓成型超大尺寸的素坯時(shí)，由于受到腔室尺寸的限制，會(huì)導(dǎo)致設(shè)備投入資金非常昂貴，而且在素坯較薄、尺寸非常大時(shí)存在變形問(wèn)題。同時(shí)，壓制不同尺寸的素坯時(shí)，需要制備不同規(guī)格的預(yù)壓模具，模具成本較高。3. 噴涂法是利用高壓氣體（N2、H2 、混合氣體或空氣）攜帶粉末顆粒經(jīng)縮放管產(chǎn)生超音速雙相流，在完全固態(tài)下撞擊基體，通過(guò)非常大的塑性流動(dòng)變形沉積于綁定背板表面而形成涂層，涂層逐層增厚，獲得陶瓷靶材。由基本的噴涂法又衍生出等離子體噴涂、電弧噴涂、超音速火焰噴涂、冷噴涂等噴涂成型技術(shù)。使用氧化鈮粉體和少量金屬Nb，用等離子體噴涂實(shí)現(xiàn)了工業(yè)化制備旋轉(zhuǎn)氧化鈮靶材。近年來(lái)，用噴涂成型工藝在高等的ITO、AZO、IGZO靶材成型上有了非常大的打破，廣州、深圳等地的大型的靶材制造商已成功制備出高性能的靶材。4. 濕法成型是通過(guò)將氧化物粉體制備成漿料，然后通過(guò)自我凝固、吸水或者壓濾等方式實(shí)現(xiàn)特定外形的素坯，干燥后獲得高密度的素坯。濕法成型不僅可以實(shí)現(xiàn)冷等靜壓成型的功能，而且還能彌補(bǔ)冷等靜壓成型的不足。陶瓷靶材的濕法成型有注漿成型、膠態(tài)成型、直接凝固成型等。噴涂法是目前應(yīng)用較多的技術(shù)，其制備的產(chǎn)品品質(zhì)高，穩(wěn)定性好。除了以上所述成型方法外，人們還研究了沖擊成型法和爆開(kāi)成型法等，目前這些新型成型方法尚在研究階段，要實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化還有很多研究工作需要進(jìn)一步細(xì)化。 [詳情]

? ? 近些年來(lái)，平面顯示器走進(jìn)千家萬(wàn)戶(hù)的家庭之中，人們看電視時(shí)的液晶電視，智能手機(jī)的觸摸屏等等，這些設(shè)備都運(yùn)用到了ITO靶材。在沒(méi)有這種材料之前，人們使用的是臺(tái)式電腦，臺(tái)式電視，使用的是滑蓋手機(jī)，翻蓋手機(jī)等。隨著平板顯示器尺寸大型化的發(fā)展，對(duì)ITO靶材尺寸及密度的要求也越來(lái)越高，熱壓設(shè)備與技術(shù)已遠(yuǎn)遠(yuǎn)不能滿(mǎn)足其要求。因此，以燒結(jié)工藝生產(chǎn)大尺寸、高密度ITO靶材已成為國(guó)內(nèi)各大靶材生產(chǎn)廠家研發(fā)的要點(diǎn)。? ? ITO靶主要用于ITO膜透明導(dǎo)電玻璃的制作，后者是制造平面液晶顯示的主要材料，在電子工業(yè)、信息產(chǎn)業(yè)方面有著廣闊而重要的應(yīng)用。ITO靶材被廣泛應(yīng)用于各大行業(yè)之中，但主要應(yīng)用于平板顯示器中，它是濺射ITO導(dǎo)電薄膜的主要原料，沒(méi)有它的存在，諸多的材料將無(wú)法實(shí)現(xiàn)正常加工以及設(shè)計(jì)。ITO靶材的用途: LCD經(jīng)過(guò)長(zhǎng)時(shí)間的發(fā)展后，產(chǎn)品質(zhì)量不斷提升，成本也不斷下降，對(duì)ITO靶材的要求也隨之提高，因此，配合LCD的發(fā)展，未來(lái)ITO靶材發(fā)展大致有以下的趨勢(shì)： 1.降低電阻率。隨著LCD愈來(lái)愈精細(xì)化發(fā)展的趨向，以及它的驅(qū)動(dòng)程序不同，需要更小電阻率的透明導(dǎo)電膜。 2.高密度化。靶材密度的改善直接帶來(lái)的益處主要表現(xiàn)在減少黑化和降低電阻率方面。靶材若為密度小時(shí)，有效濺射表面積會(huì)減少，濺射速度也會(huì)降低，靶材表面黑化趨勢(shì)加劇。高密度靶的表面變化少，可以得到低電阻膜。靶材密度與壽命也有關(guān)，高密度的靶材壽命較長(zhǎng)，意味著可降低靶材成本。 3.尺寸大型化。隨著液晶模塊產(chǎn)品輕薄化和低價(jià)化趨勢(shì)的不斷發(fā)展，相應(yīng)的ITO玻璃基板也出現(xiàn)了明顯的大型化的趨勢(shì)，因此ITO靶材單片尺寸大型化不可避免。 4.靶材本體整體化。如前所述，靶材將朝大面積發(fā)展，以往技術(shù)能力不足時(shí)，必須使用多片靶材拼焊成大面積，但由于接合處會(huì)造成鍍膜質(zhì)量下降，因此目前大多以一體成形為主，以提升鍍膜質(zhì)量與使用率。未來(lái)新世代LCD玻璃基板尺寸的加大，對(duì)靶材生產(chǎn)廠家是一項(xiàng)嚴(yán)苛的挑戰(zhàn)。 5.使用效率高率化。靶材使用率的提升，一直是設(shè)備商、使用者及靶材制造商共同努力的方向。目前靶材利用率可達(dá)40%，隨著液晶顯示器行業(yè)對(duì)材料成本要求的提高，提高ITO靶材的利用率也將是未來(lái)靶材研發(fā)的方向之一。? ? 近年來(lái)，國(guó)內(nèi)的靶材廠家發(fā)展速度，以尤特新材料為首的靶材生產(chǎn)商，加大了研發(fā)的投入，并引進(jìn)國(guó)內(nèi)外先進(jìn)的生產(chǎn)和檢驗(yàn)設(shè)備，其制造的靶材已達(dá)到國(guó)外先進(jìn)進(jìn)口靶材的品質(zhì)，5N6N的高純靶材生產(chǎn)技術(shù)也日趨成熟。相信，不久將來(lái)，國(guó)內(nèi)的靶材企業(yè)能在全部市場(chǎng)上也占有一席之地。 [詳情]