為了降低旋轉(zhuǎn)磁控濺射靶材的成本，提高靶材利用率，靶材廠家和學者共同對靶材結構進行了研究。研究結果表明，通過調(diào)整中心磁體和外磁體的位置，能有效提高靶材利用率和靶材的刻蝕寬度，這樣靶材利用率能達到40%左右，而傳統(tǒng)的靶材利用率不到30%。

    有學者提出了一些結構簡單可靠度高的新型陰較靶結構：旋轉(zhuǎn)陰較靶結構，其中磁靴由磁軛板、外磁鐵和中心磁鐵組成， 其中靴板是一個和鎳靶同直徑的環(huán)形軟鐵圓盤， 短環(huán)形的外磁鐵安裝在磁軛板的邊緣，中心磁鐵是由 FeNdB 材料制成的永磁體，被偏心安裝在磁軛板上。磁軛繞著靶的中心線旋轉(zhuǎn)，并帶動中心磁鐵繞著靶材的中心線偏心旋轉(zhuǎn)，磁力線在中心磁鐵和短外磁鐵之間形成閉合回路，使靶面的磁力線分布擴寬，增加了濺射面積。

    同時，研究結果也表明，磁軛傾角的增加，磁流密度分布擴展且均勻性增強，刻蝕區(qū)域朝著靶材外方向變寬。靶材廠家還比較了旋轉(zhuǎn)時兩種不同形狀的外磁軛對靶材刻蝕形貌和利用率的影響，研究表明，當利用圓形外磁軛時，隨著磁軛傾角由0?增至8?，靶材利用率從60%到80%呈線性增加。當外磁軛是橢圓形時，靶材的平均利用率為70%，而與磁軛的傾角無關。在相同的磁軛角度下，橢圓形磁軛的刻蝕速率是圓形磁軛刻蝕速率的1.2倍，因此可以根據(jù)不同的工藝參數(shù)選擇合適的磁軛傾角和外磁軛形狀。

    數(shù)據(jù)表明：旋轉(zhuǎn)陰較靶結構的靶材，其利用率比平面結構的靶材的利用率高。在未來的研究領域中，磁控濺射技術與表面工程技術、機械工程等技術的結合成為必然趨勢，如何從結構改良和表面處理著手來提高靶材表面材料特性， 增加換熱效果，提高靶材利用率以及有效提高生產(chǎn)線換靶效率將成為靶材廠家研究的方向。